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集成電路制造工藝員（三級(jí)）單項(xiàng)選擇題每日一練(2019.02.09)

單項(xiàng)選擇題
化合物半導(dǎo)體砷化鎵常用的施主雜質(zhì)是（）。
A.錫
B.硼
C.磷
D.錳
單項(xiàng)選擇題
固體中的擴(kuò)散模型主要有填隙機(jī)制和（）。
A.自擴(kuò)散機(jī)制
B.雜質(zhì)擴(kuò)散機(jī)制
C.空位機(jī)制
D.菲克擴(kuò)散方程機(jī)制
單項(xiàng)選擇題
薄膜沉積的機(jī)構(gòu)，依發(fā)生的順序，可以分為這幾個(gè)步驟。其中不包括（）。
A.形成晶核
B.晶粒自旋
C.晶粒凝結(jié)
D.縫道填補(bǔ)
單項(xiàng)選擇題
我們可以從測(cè)量去離子水的酸度來判別陰陽樹脂誰先失效，陰樹脂先失效，水呈（）性。
A.酸
B.堿
C.弱酸
D.弱堿
單項(xiàng)選擇題
擴(kuò)散爐中的管道一般都是用（）制作。
A.陶瓷
B.玻璃
C.石英
D.金屬