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半導體芯片制造工半導體芯片制造中級工判斷題每日一練(2020.02.11)
判斷題
光刻工藝要求掩膜版圖形黑白區(qū)域之間的反差要低。（）
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判斷題
光致抗蝕劑在曝光前對某些溶劑是可溶的，曝光后硬化成不可溶解的物質，這一類抗蝕劑稱為負性光致抗蝕劑，由此組成的光刻膠稱為負性膠。（）
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判斷題
表面鈍化工藝是在半導體芯片表面復蓋一層保護膜，使器件的表面與周圍氣氛隔離。（）
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判斷題
可靠性篩選可以剔除早期失效的產品。（）
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判斷題
設備、試劑、氣瓶等所有物品不需經嚴格清潔處理，可直接進入凈化區(qū)。（）
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