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化學(xué)機械拋光(CMP)是將游離磨料的()作用和氧化劑的()作用有機結(jié)合,實現(xiàn)超精磨無損傷表面加工,因而也是一種復(fù)合加工方法。
答案:
機械研磨;化學(xué)
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化學(xué)拋光包括表面的()化和()化兩個過程。后一個過程是改變了材料的(),能使得金屬制品超過原有的光澤效果(光亮度)。
答案:
平滑;光亮;金相結(jié)構(gòu)
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化學(xué)拋光利用()反應(yīng),凸出部分的氧化膜更厚其溶解速度()凹陷處的溶解速度,從而使得加工表面逐漸均平并光亮化。
答案:
氧化;大于
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