A、須與所檢工件及要求檢出的缺陷一樣 B、經(jīng)過權(quán)威機(jī)構(gòu)檢定認(rèn)可 C、不一定有人工缺陷 D、外表面必須精磨光滑
A、孔徑相同 B、孔徑不同距離相同 C、孔至探測面深度不一 D、上述都不對
A、清洗器 B、晶片準(zhǔn)直器 C、角度調(diào)整器 D、對比試塊