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問答題

【簡答題】簡述SiO₂在集成電路中的用途。

答案： ①柵氧層：做MOS結(jié)構(gòu)的電介質(zhì)層（熱生長）
②場氧層：限制帶電載流子的場區(qū)隔離（熱生長或沉積）
③保...

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