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某一量具工作面的平面度,若在白光情況下用平晶以技術光波干涉法檢定時,受檢工作面的平面度一般不大于()
A.0.01mm
B.0.02um
C.0.03um
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B.0.10±0.05mm
C.0.20±0.05mm
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