單項(xiàng)選擇題

大硅片上生長(zhǎng)的（）的不均勻和各個(gè)部位刻蝕速率的不均勻會(huì)導(dǎo)致刻蝕圖形轉(zhuǎn)移的不均勻性。

A.薄膜厚度
B.圖形寬度
C.圖形長(zhǎng)度
D.圖形間隔

微信掃碼免費(fèi)搜題