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高密度等離子體刻蝕機(jī)是為亞0.25微米圖形尺寸而開(kāi)發(fā)的最重要的干法刻蝕系統(tǒng)。
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與干法刻蝕相比,濕法腐蝕的好處在于對(duì)下層材料具有高的選擇比,對(duì)器件不會(huì)帶來(lái)等離子體損傷,并且設(shè)備簡(jiǎn)單。
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在刻蝕中用到大量的化學(xué)氣體,通常用氟刻蝕二氧化硅。
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