在整個(gè)擴(kuò)散過(guò)程中,雜質(zhì)不斷進(jìn)入硅中,而表面雜質(zhì)濃度始終保持不變。
擴(kuò)散開(kāi)始時(shí),表面放入一定量的雜質(zhì)源,而在以后的擴(kuò)散過(guò)程中不再有雜質(zhì)加入,此種擴(kuò)散稱(chēng)為有限源擴(kuò)散。