問答題

【簡答題】什么是正光刻膠，負光刻膠？

答案：正光刻膠：膠的曝光區(qū)在顯影中除去，當前常用正膠為DQN，組成為光敏劑重氮醌（DQ），堿溶性的酚醛樹脂（N），和溶劑二甲苯...

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【簡答題】什么是負光刻膠？

答案：

負光刻膠：膠的曝光區(qū)在顯影中保留，未曝光區(qū)在顯影中除去，負膠多由長鏈高分子有機物組成

【簡答題】顯影為何要進行檢查？

答案：

區(qū)分哪些有很低可能性通過最終掩膜檢驗的襯底，提供工藝性能和工藝控制數(shù)據(jù)，以及分揀出需要重做的襯底