多項(xiàng)選擇題

閉鎖料斗循環(huán)時(shí)間延長(zhǎng)的原因（）。

A.第三步吹烴時(shí)間長(zhǎng)
B.第四步排料時(shí)間長(zhǎng)
C.閉鎖料斗設(shè)定料位低
D.閉鎖料斗設(shè)定循環(huán)時(shí)間延長(zhǎng)

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多項(xiàng)選擇題

還原器溫度升高的原因有（）。

A.閉鎖料斗送過來大量吸附劑
B.加熱爐對(duì)流室出口溫度高
C.反應(yīng)器油氣竄入還原器
D.還原器下部的松動(dòng)氣量增加

多項(xiàng)選擇題

降低還原器溫度的方法（）。

A.降低加熱爐對(duì)流室出口溫度
B.降低流化氫氣量
C.降低反應(yīng)壓力
D.降低反應(yīng)溫度