問答題

【簡答題】離子注入的主要缺點是什么？如何克服？

答案： 1、高能雜質(zhì)離子轟擊硅原子將對晶體結(jié)構(gòu)產(chǎn)生損傷。（高溫退火進行修復(fù)）。
2、注入設(shè)備的復(fù)雜性。（被注入機對劑量...

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【簡答題】列舉離子注人優(yōu)于擴散的7點。

答案： 1.精確控制雜質(zhì)含量。
2.很好的雜質(zhì)均勻性。
3.對雜質(zhì)穿透深度有很好的控制。
4.產(chǎn)生...

【簡答題】離子注入通常在什么工藝之后？

答案：光刻。