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問答題
【簡答題】試說明硅工藝中常用摻雜雜質(zhì)B，P，As的擴散特性。
答案：
B：P型雜質(zhì)，OED；
P：N型雜質(zhì)，深結(jié)，OED；
AS：N型雜質(zhì)，離子注入精確控制結(jié)深。
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發(fā)射區(qū)推進(jìn)效應(yīng)
答案：
在npn窄基區(qū)晶體管的制造中，基區(qū)和發(fā)射區(qū)分別擴硼和擴磷時：高濃度發(fā)射區(qū)擴散時，基區(qū)雜質(zhì)的繼續(xù)擴散受到發(fā)射區(qū)雜質(zhì)的影響，...
