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真空鍍膜操作員章節(jié)練習(xí)(2020.04.11)

單項(xiàng)選擇題
用普通加熱工藝鍍膜時(shí)，烘烤的恒溫時(shí)間最少要求是多少？（）
A.20分鐘
B.30分鐘
C.40分鐘
D.50分鐘
多項(xiàng)選擇題
正?？缮敌拚宓腻兡C(jī)，若EB2正在鍍膜，EB1，EB2上方的修正板，處于何種狀態(tài)？（）
A、EB1上方的修正板升起
B、EB2上方的修正板升起
C、EB1上方的修正板下降
D、EB2上方的修正板下降
問(wèn)答題
CVD制程具有哪些優(yōu)缺點(diǎn)？
答案：優(yōu)點(diǎn)：
（1）真空度要求不高，甚至不須真空，如熱噴覆。
（2）高沉積速率，APCVD可以達(dá)到1&mu...
多項(xiàng)選擇題
在蒸鍍膜料時(shí)，電子槍電流有，但加不高的原因是（）。
A、裝電子槍燈絲螺絲松了
B、電子槍燈絲壽命到期
C、燈絲斷了
D、高壓引線松動(dòng)
判斷題
鍍膜機(jī)冷卻水的水溫越低越好.
答案：錯(cuò)誤
判斷題
坩堝擋板裝偏了會(huì)導(dǎo)致漏料問(wèn)題。
答案：正確
問(wèn)答題
在使用擴(kuò)散泵應(yīng)注意哪些事項(xiàng)？
答案：1、冷卻水不足，必須關(guān)閉擴(kuò)散泵，否則輕則會(huì)造成返油，重則會(huì)使擴(kuò)散泵過(guò)熱造成擴(kuò)散泵油燒焦。（機(jī)器若有自動(dòng)保護(hù)裝置，會(huì)自動(dòng)停...
填空題
石英晶體控制原理主要是利用了石英晶體的兩個(gè)效應(yīng)，即（）和（）。
答案：壓電效應(yīng)；質(zhì)量負(fù)荷效應(yīng)
單項(xiàng)選擇題
對(duì)于AR膜而言，下列哪個(gè)波段反射率偏高時(shí)，鏡片的反射光呈現(xiàn)紅色？（）
A、400~420nm
B、500~530nm
C、580~620nm
D、630~760nm
單項(xiàng)選擇題
鍍膜機(jī)中EB代表的含義（）。
A、電腦
B、擴(kuò)散泵
C、電子槍
D、光斑

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