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【簡答題】為什么0.25微米以下工藝的干法刻蝕需要高密度等離子體?
答案:
傳統(tǒng)的RIE系統(tǒng)等離子體離化率最大0.1%,因而需要較多的氣體以產(chǎn)生足夠的粒子。較高的氣壓使得粒子碰撞頻繁,反應(yīng)粒子很難...
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【簡答題】簡述ULSI對刻蝕的要求。
答案:
①對不需要刻蝕的材料(主要是光刻膠和下層材料)的高選擇比;
②可接受產(chǎn)能的刻蝕速率;
③好的側(cè)壁剖面...
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【簡答題】刻蝕有哪些參數(shù)?
答案:
①刻蝕速率;
②刻蝕偏差;
③選擇比;
④均勻性;
⑤刻蝕剖面。
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