問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述集成電路對(duì)薄膜的要求。

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②填充高深寬比間隙的能力;
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④高純度和高密度;<...
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名詞解釋

化學(xué)氣相沉積(CVD)

答案: 化學(xué)氣相沉積是利用電阻加熱、等離子體、光輻射等能源使某些氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成固態(tài)物質(zhì)并沉積在襯底表面形成薄膜的過(guò)程...
問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】為什么多晶硅的干法刻蝕要采用氯基氣體而不是氟基氣體?

答案: 不用SF6等F基氣體是因?yàn)镃l基氣體刻蝕多晶硅對(duì)下層的柵氧化層有較高的選擇比。
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