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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述集成電路對(duì)薄膜的要求。
答案:
①好的臺(tái)階覆蓋能力;
②填充高深寬比間隙的能力;
③好的厚度均勻性;
④高純度和高密度;<...
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名詞解釋
化學(xué)氣相沉積(CVD)
答案:
化學(xué)氣相沉積是利用電阻加熱、等離子體、光輻射等能源使某些氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成固態(tài)物質(zhì)并沉積在襯底表面形成薄膜的過(guò)程...
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】為什么多晶硅的干法刻蝕要采用氯基氣體而不是氟基氣體?
答案:
不用SF
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等F基氣體是因?yàn)镃l基氣體刻蝕多晶硅對(duì)下層的柵氧化層有較高的選擇比。
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