首頁
題庫
網(wǎng)課
在線模考
桌面端
登錄
搜標(biāo)題
搜題干
搜選項
0
/ 200字
搜索
填空題
光刻包括兩種基本的工藝類型:負(fù)性光刻和(),兩者的主要區(qū)別是所用光刻膠的種類不同,前者是(),后者是()。
答案:
正性光刻;負(fù)性光刻膠;正性光刻膠
點擊查看答案
在線練習(xí)
手機(jī)看題
你可能感興趣的試題
填空題
CMP是一種表面()的技術(shù),它通過硅片和一個拋光頭之間的相對運動來平坦化硅片表面,在硅片和拋光頭之間有(),并同時施加()。
答案:
全局平坦化;磨料;壓力
點擊查看答案
手機(jī)看題
填空題
硅片平坦化的四種類型分別是()、部分平坦化、()和()。
答案:
平滑;局部平坦化;全局平坦化
點擊查看答案
手機(jī)看題
微信掃碼免費搜題