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問答題
【簡答題】采用提拉法（CZ法，切克勞斯基法）和區(qū)熔法制備的硅片，哪種方法質(zhì)量更高，為什么？那么目前8英寸以上的硅片，經(jīng)常選擇哪種方式制備，為什么？
答案：
區(qū)熔法制備的硅片質(zhì)量更高，因?yàn)楹趿康汀?br /> 8英吋以上的硅片，選擇CZ法制備，晶圓直徑大。
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問答題
【簡答題】化學(xué)機(jī)械平坦化的工作機(jī)理是什么？與傳統(tǒng)平坦化方法相比，它有哪些優(yōu)點(diǎn)？
答案：
化學(xué)機(jī)械平坦化（CMP）工作機(jī)理：表面材料與磨料發(fā)生反應(yīng)，生成容易去除的表面層；同時表面層通過磨料中的研磨劑和研磨壓力與...
問答題
【簡答題】Si3N4材料在半導(dǎo)體工藝中能否用作層間介質(zhì)，為什么？請舉兩例說明Si3N4在集成電路工藝中的應(yīng)用。
答案：
Si3N4材料在半導(dǎo)體工藝中不能用作層間介質(zhì)，因?yàn)镾i3N4材料的介電常數(shù)大，用作層間介質(zhì)會引起很嚴(yán)重的互連延遲。
