填空題

在硅表面LPCVD-Si3N4之前,都會先熱生長薄氧化層,它被稱為()層。

答案: 緩沖
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干法刻蝕的方式主要有:濺射刻蝕、等離子體刻蝕、()刻蝕三種。

答案: 反應(yīng)離子
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