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            半導體芯片制造工單項選擇題每日一練(2020.06.07)
            • 單項選擇題
              恒定表面源擴散的雜質(zhì)分布在數(shù)學上稱為（）分布。
              
	A.高斯
              
	B.余誤差
              
	C.指數(shù)
              

            • 單項選擇題
              光刻工藝是利用感光膠感光后抗腐蝕的特性在半導體晶片表面的掩膜層上的工藝（）
              
	A.刻制圖形
              
	B.繪制圖形
              
	C.制作圖形
              

            • 單項選擇題
              厚膜元件燒結(jié)時，漿料中的固體顆粒由接觸到結(jié)合、自由表面的收縮、空隙的排除、晶體缺陷的消除等都會使系統(tǒng)的自由能（），從而使系統(tǒng)轉(zhuǎn)變?yōu)闊崃W中更穩(wěn)定的狀態(tài)。
              
	A.降低
              
	B.升高
              
	C.保持不變
              

            • 單項選擇題
              離子注入層的深度主要取決于離子注入的（）。
              
	A.能量
              
	B.劑量
              

            • 單項選擇題
              反應離子腐蝕是（）。
              
	A.化學刻蝕機理
              
	B.物理刻蝕機理
              
	C.物理的濺射刻蝕和化學的反應刻蝕相結(jié)合
              

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