半導(dǎo)體芯片制造工問(wèn)答題每日一練(2020.04.12)

問(wèn)答題
光刻和刻蝕的目的是什么？
答案：光刻的目的是將電路圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋于硅片表面的光刻膠上，而刻蝕的目的是在硅片上無(wú)光刻膠保護(hù)的地方留下永久的圖形。即將圖形轉(zhuǎn)...
問(wèn)答題
什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？
答案：阻擋層金屬是淀積金屬或金屬塞，作用是阻止層上下的材料互相混合。
可接受的阻擋層金屬的基本特征是：
①...
問(wèn)答題
例舉出半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的8種不同職業(yè)并簡(jiǎn)要描述。
答案：1.硅片制造技師：負(fù)責(zé)操作硅片制造設(shè)備。一些設(shè)備維護(hù)以及工藝和設(shè)備的基本故障查詢(xún)。
2.設(shè)備技師：查詢(xún)故障并維護(hù)...
問(wèn)答題
例舉雙大馬士革金屬化過(guò)程的10個(gè)步驟。
答案：
問(wèn)答題
根據(jù)曝光方式的不同，光學(xué)光刻機(jī)可以分成幾類(lèi)？各有什么優(yōu)缺點(diǎn)？
答案：根據(jù)曝光方式不同光學(xué)光刻機(jī)主要分為三種：接觸式，接近式，投影式。接觸式：接觸式光刻機(jī)是最簡(jiǎn)單的光刻機(jī)，曝光時(shí)，掩模壓在涂...